專業生產印刷防偽標簽
專注研發生產防偽材料
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1、核徑跡膜的生產必須使用原子核反應堆等國家專控大型核設施，國內只有極少數幾個在國家控制下的核研究單位擁有這樣的設備，是任何個人和團體不可能擁有的。目前國內唯有清華大學核能技術設計研究院的核反應堆具有生產核徑跡膜的能力。高度唯一決定一般企業不可生產性。核徑跡防偽生產是占有獨性的 。核徑跡防偽標識的生產，還需要核物理、化學、電子、機械、光學等多學科的共同參與才能完成。
2、核徑跡防偽標識圖案是由每平方厘米幾十萬到幾百萬個微米級微孔組成，具有“微觀設密宏觀顯示”的特點，使不可見的幾百萬個像素集合“放大”成為可見的宏觀圖案。微孔密度、微孔斜度、孔徑及分布規律，形成了嚴格的密碼信號，是仿造者根本無法逾越的障礙。核徑跡防偽標識其特有的微孔分布規律，圓柱形微孔孔道具有的散射角，及其分布規律，使得防偽標識在顯微鏡下可以清楚地識別出是否為核反應堆加工，實現了專家識別和大眾識別相結合的防偽目的。防偽圖案是不可仿造的 。
3、核徑跡防偽標簽產品安全評價報告，清華大學核能技術設計研究院生產的核徑跡防偽膜經各級權威部門測試，符合國家“GB4792-84”放射衛生防護標準，放射水平為本底膜水平。可以作為食品、藥品等各類產品的包裝。上較廣，隱形文字、圖案多用于防偽技術。
【滴水顯真偽，水干后復原，0.1秒內即刻辨真偽】
一線防偽：涂濕標識表面，立刻顯示出更多隱藏的信息即為真，絕大多數的商品具備此一種防偽性能就已經足夠了。
二線防偽： 涂濕標識表面，在紫外線照射下觀察，能夠清晰地觀察到發光的圖文信息即為真，適用于機密文件、證件。同時可以結合其他的紙張防偽、油墨防偽等等。
三線防偽：涂濕標識表面，用放大鏡觀察，可見其獨特的紋路特征，此鑒別適用于專家鑒定。
納米濕敏防偽是利用特殊的工藝以及設備生產的一種納米級微孔薄膜材料，微孔在表面按照一定的規律分布排列，孔道具有超強的親水性能，因此薄膜材料在遇到水等透明液體時，材料將立即變得透明。納米濕敏防偽技術就是基于這種防偽材料而誕生的一種新型防偽技術。
