宏源清 | 核徑跡防偽
2019-10-08
核徑跡防偽技術是根據用戶要求的圖案通過成像技術采用原子能核反應堆輻照，在薄膜上形成圓柱狀微米級微孔，微孔密度每平方厘米40-200萬個，微孔在平面上按統計規律分布，微孔斜度30-50度，孔道具有良好的透氣、透水性能。通過特殊工藝將薄膜與基材復合，再經過印刷而制成客戶要求的防偽標識。
而核徑跡模的生產，在國內也只有術少數幾個單位可以做到，因為它設備非常的昂貴，高度的唯一性決定了制假者不可能輕易做到，從而實惠它的獨特性，除此之外，還需要特殊的物理，化學，光學等學科技術的共同參與下才能完成。并且，其防偽圖案也是不可仿造的，市面上的放大鏡和掃描設備是無法掃摹。它一般會用到各種產品的盒子包裝上。
